Me gustaría saber dos cosas sobre foto resiste (PR):
¿Cómo se utiliza resistencia foto positiva para el despegue?
¿Qué es EBL y ¿por qué resistir foto negativo se utiliza en este caso?
Respuesta
¿Demasiados anuncios?
Vamos a aclarar la terminología aquí para el beneficio del lector.
Un positivo foto resistir es uno en el que las áreas expuestas, se eliminan en posteriores pasos de procesamiento. es decir, donde la luz brilla, la fotoprotección (PR) es eliminado.
EBL significa Litografía de Haz de Electrones.
En el levante, se deposita una capa de material en la parte superior de un PR capa, es posterior tratamiento que elimina el PR, y en ese proceso "despega" el material depositado junto con el PR. En los lugares donde el PR no existe el material depositado se adhiere a las zonas expuestas y se queda después de la PR de procesamiento.
En la EBL su patrón es a través de los electrones, y cuando los electrones de impacto de los PR que reticulación del polímero haciendo más difícil. Eso significa que en las zonas donde el haz contactos (es expuesto) el PR se queda atrás. Es posible hacer un Positivo EBL resistir pero el mecanismo de la exposición es uno de los daños a fin de sensibilizar a la posterior procesamiento. Esto es difícil de hacer sin dañar el sustrato.
