Estoy diseñando una memoria no volátil de la célula y de la fundición no tiene modelo de puerta flotante . Así que he usado el Voltaje de la fuente de corriente controlada para imitar la puerta flotante. Por las características de salida, yo ya tenía la medición de la anterior fabricados por encargo de puerta flotante y he insertado el archivo CSV enlace para las mediciones en vccs. Ahora para la simulación tengo que probar el de puerta flotante (vccs en mi caso) para variaciones en el proceso (PVT). Para el voltaje es simplemente el incremento de la tensión, para la temperatura de alguna manera la escala de la salida basado en el valor de la temperatura. Pero para la variación del proceso, no es posible utilizar este vccs . Así que ¿alguien puede guiarme ¿hay alguna manera de que yo pueda imitar puerta flotante mediante simple P-transistor MOS de la tecnología de la que estoy utilizando?.
He encontrado algunos documentos en línea en el modelo de simulación de la puerta flotante:
La cadencia basado en la simulación de flotación-puerta de circuitos utilizando el modelo EKV
Práctica del Modelo de Simulación de Flotación-Puerta de MOS Transistor en Sub 100nm Tecnologías
UN MODELO DE SIMULACIÓN PARA LA FLOTANTE PUERTA DE MOS SINAPSIS TRANSISTORES
Un completo Modelo de Simulación para los Transistores de Puerta Flotante
Estoy en el camino correcto o me estoy perdiendo algo ? Alguien tiene experiencia en el modelado de la puerta flotante mediante simple p-mos ? o ¿alguien tiene una solución mejor?
Gracias